環形供料導流裝置制造方法
【專利摘要】本發明提供一種環形供料導流裝置，上座具有入料孔連通凹槽，凹槽中隆起第一環墻且與第一穿孔相通；下座的上半部具有第一錐孔與第二環墻，下半部具有第二錐孔與第二環墻間形成環形間隙，下座具有形成在上半部與下半部之間的進氣孔連通環形間隙且進氣方向朝向第二環墻；頂蓋具第三環墻而在蓋合上座時縱向地穿入第一穿孔，墊片被夾設于上座與下座之間；凹槽可連通至第一錐孔，且變幅桿可伸入第一錐孔中，藉此構成本發明。本發明能使漿料經由第一錐孔與第二錐孔均勻的噴出，且凹槽可避免脈沖現象，第一錐孔與第二錐孔的斜錐可對霧化噴出的漿料塑形，提高霧化的漿料噴涂在被噴物件上的均勻性以及增加噴涂面積的寬廣度。
【專利說明】環形供料導流裝置【技術領域】
[0001]本發明涉及一種環形供料導流裝置，特別是一種應用在超音波噴涂技術的供料導流裝置。
【背景技術】
[0002]按超音波噴涂技術主要應用領域可包含光電產業、生醫科技、材料科學、綠能科技與食品加工，可知其應用范圍相當廣泛。超音波噴涂技術的主要重點，在于必須能均勻且穩定地噴涂在被噴物件上，故此為超音波噴設備于設計上的重點所在。
[0003]目前市面上的超音波噴涂設備，包含超音波系統與供料系統，如圖6所示的超音波系統，其變幅桿80與換能器81也為一體成型的構造，且與供料系統相結合為一體，雖一體成型具有模組安裝以及空間配置彈性較大的優點，但因其構造為一體成型，故若超音波系統或供料系統一者損壞，或是超音波系統的變幅桿80或換能器81 —者損耗，皆無法就單一系統或系統的元件維修更換，因此必須全機停止作業進行維修，造成牽一發動全身的問題。
[0004]市面上另一種超音波噴涂設備，其超音波系統與供料系統是獨立設置，如圖7所示，供料系統90采取側邊供料的方式，且超音波系統中的換能器與變幅桿91也是分為兩個部分(圖中僅見其變幅桿91 )，故若供料系統90或超音波系統一者損壞，或是超音波系統的變幅桿91或換能器一者損耗，可就單一系統或系統的元件維修更換，具有維修容易且費用較低，但噴涂作業中，若只利用側邊供料，便會產生漿料無法均勻的噴出以霧化被噴物件的表面，影響到噴涂的效率，且在變幅桿出料的型態被限制為線型，故出料的范圍相對窄小。
[0005]因此，如何解決上述現有超音波噴涂技術的問題，即為本發明的主要重點所在。
【發明內容】
[0006]為了解決上述的問題，本發明的目的是提供一種環形供料導流裝置，令超音波噴
涂作業中漿料的噴涂能穩定且有效率，相對具有較高的材料使用率而達到良好的成本效益。
[0007]為實現上述目的，本發明采取以下技術方案:
一種環形供料導流裝置，可供超音波變幅桿穿入并進行超音波噴涂作業，它包括:
一上座，具有一開口向上的凹槽，且在相對的兩側各具有一入料孔與該凹槽相通，并在該凹槽中隆起一第一環墻，在該第一環墻中縱向貫穿一第一穿孔，該凹槽深度大于該第一環墻隆起的高度而與該第一穿孔相通；
一下座，包含一上半部與一下半部上下迭設，該上半部具有一內徑由上往下漸擴的第一錐孔，且該上半部在該第一錐孔的底端的周圍具有一順沿該第一錐孔的斜度朝下半部方向凸出的第二環墻；該下半部具有一內徑由上往下漸擴的第二錐孔，該第二錐孔在頂端的最小徑大于該第二環墻的外徑，且與該第二環墻間形成一環形間隙；該下座在相對的兩側各具有一形成在上半部與下半部之間的進氣孔，各進氣孔在下座中的末端連通該環形間隙，且進氣方向朝向第二環墻；
一頂蓋，蓋合于該上座的凹槽的開口，該頂蓋具有一第三環墻，該第三環墻的外徑小于該第一穿孔且縱向地穿入該第一穿孔，且該第三環墻的周側與該第一穿孔間具有一縱向間隙，該第三環墻中具有一第二穿孔；
一墊片，被夾設于該上座與該下座之間，且在該第一穿孔之中的部分與該第三環墻之間具有一橫向間隙，并具有一第三穿孔與該第一錐孔連通；
該第一穿孔、第二穿孔、第三穿孔、第一錐孔與第二錐孔同軸而設，該凹槽經由該縱向間隙、橫向間隙、第三穿孔而與該第一錐孔連通，變幅桿由該第二穿孔穿經該第三穿孔而伸入該第一錐孔中。
[0008]所述第三環墻的長度與所述上座的高度相等，所述墊片的第三穿孔與所述第一錐孔頂端的最小徑相等，且所述墊片在所述第一穿孔內的范圍具有一與所述第三環墻的底端形成該橫向間隙的凹部。
[0009]本發明的有益效果是:本發明的環形供料導流裝置在漿料供料時，是由變幅桿的四周同步供料進入該第一錐孔，能使漿料經由第一錐孔與第二錐孔均勻的噴出，且上座中凹槽的設計可避免脈沖現象，意即可對突然進入的漿料達到緩沖的效果而可持續穩定地供料進入第一錐孔。第一錐孔與第二錐孔的斜錐設計可對霧化噴出的漿料塑形，沿著環形氣墻形成渦旋式的流場，進而可以提高霧化的漿料噴涂在被噴物件上的均勻性以及增加噴涂面積的寬廣度。
[0010]本發明的上述及其他目的與優點，不難從下述所選用實施例的詳細說明與附圖中，獲得深入了解。
[0011]當然，本發明在某些另件上，或另件的安排上容許有所不同，但所選用的實施例，則在本說明書中，予以詳細說明，并于附圖中展示其構造。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]圖1為本發明的立體外觀圖。
[0013]圖2為本發明的分解配置圖。
[0014]圖3為本發明的立體剖視圖。
[0015]圖4為本發明由下座仰視的進氣孔通往環形間隙的示意圖。
[0016]圖5為本發明的噴涂作業的平面示意圖。
[0017]圖6為現有超音波噴涂設備的變幅桿與換能器一體成型的示意圖。
[0018]圖7為現有超音波噴涂設備的變幅桿以供料系統側邊供料的示意圖。。
【具體實施方式】
[0019]請參閱圖1至圖5，圖中所示為本發明所選用的實施例結構，此僅供說明之用，在專利申請上并不受此種結構的限制。
[0020]本實施例提供一種環形供料導流裝置，如圖1所示，包括一上座1、一下座2、一頂蓋3及一墊片4，可供超音波變幅桿5穿入并進行超音波噴涂作業，其中:
如圖2至圖3所示，該上座I具有一凹槽I I，此凹槽I I的開口 I I O向上，上座I在相對的兩側各具有一入料孔I 2與該凹槽I I相通，上座I并在該凹槽I I中隆起一第一環墻I 3，第一環墻I 3中縱向貫穿一第一穿孔I 4，該凹槽I I深度大于該第一環墻
13隆起的高度而與該第一穿孔I 4相通。
[0021]如圖2至圖3所示，該下座2包含一上半部2 I與一下半部2 2上下迭設，該上半部2 I具有一第一錐孔2 I I，此第一錐孔2 I I的內徑由上往下漸擴，且上半部2 I在該第一錐孔2 I I的底端的周圍具有一第二環墻2 I 2，此第二環墻2 I 2順沿該第一錐孔2 I I的斜度朝下半部2 2方向凸出；該下半部2 2具有一第二錐孔2 2 I，此第二錐孔2 2 I的內徑由上往下漸擴，此第二錐孔2 2 I在頂端的最小徑大于該第二環墻
2I 2的外徑，且與該第二環墻2 I 2間形成一環形間隙2 3。又如圖4所示，該下座2在相對的兩側各具有一進氣孔2 4，各進氣孔2 4形成在上半部2 I與下半部2 2之間，各進氣孔2 4在下座2中的末端連通該環形間隙2 3，且進氣方向朝向第二環墻2 12。
[0022]如圖2至圖3所示，該頂蓋3蓋合于該上座I的凹槽I I的開口 I I O，此頂蓋3具有一第三環墻3 I，此第三環墻3 I的外徑小于該第一穿孔I 4且縱向地穿入該第一穿孔I 4，且第三環墻3 I的周側與第一穿孔I 4間具有一縱向間隙3 2，第三環墻3 I中具有一第二穿孔3 3。
[0023]如圖2至圖3所示，該墊片4被夾設于該上座I與該下座2之間，且在該第一穿孔I 4之中的部分與該第三環墻3 I之間具有一橫向間隙4 I，并具有一第三穿孔4 2與該第一錐孔2 I I連通。
[0024]如圖2至圖3所示，在本實施例中，該第三環墻3 I的長度與該上座I的高度相等，該墊片4的第三穿孔4 2與該第一錐孔2 I I頂端的最小徑相等，且墊片4在該第一穿孔I 4內的范圍具有一凹部4 3，此凹部4 3與該第三環墻3 I的底端形成該橫向間隙4 I。
[0025]如圖3所示，本實施例的環形供料導流裝置，該第一穿孔I 4、第二穿孔3 3、第三穿孔4 2、第一錐孔2 I I與第二錐孔2 2 I同軸而設，通過凹槽I I經由該縱向間隙
32、橫向間隙4 1、第三穿孔4 2而與該第一錐孔2 I I連通，變幅桿5由該第二穿孔
33穿經該第三穿孔4 2而伸入該第一錐孔2 I I中。如圖5所示，噴涂的漿料在涂作業時，由上座I的入料孔I 2進入凹槽I I中，并在凹槽I I中填滿至超過該第一環墻I 3的高度時，由該縱向間隙3 3流入該第一穿孔I 4，且流入該橫向間隙4 I，并經過該第二穿孔3 3從變幅桿5的四周流入第一錐孔2 I I，通過該變幅桿5的超音波作用，由縱波形式傳遞致霧化表面產生振動，后完成漿料霧化；同時，該下座2的進氣孔2 4送入高壓氣體開始排氣，此時高壓氣體朝第二環墻2 I 2方向噴出，經第二環墻2 I 2的反彈而順著環形間隙2 3以第二錐孔2 2 I的斜度噴出，形成一也呈錐形的環形氣墻A，且流入第一錐孔2 I I的漿料形成渦旋式的流場，并由以該環形氣墻A作為噴涂范圍的限制。
[0026]由上述的說明不難發現本發明的優點，在于:
1、本發明的環形供料導流裝置在漿料供料時，是由變幅桿5的四周同步供料進入該第一錐孔2 I I，相較于側邊供料，能使漿料經由第一錐孔2 I I與第二錐孔2 2 I均勻的噴出，且上座I中凹槽I I的設計可避免脈沖現象，意即可對突然進入的漿料達到緩沖的效果而可持續穩定地供料進入第一錐孔2 11。
[0027]2、第一錐孔與第二錐孔的斜錐設計可對霧化噴出的漿料塑形，沿著環形氣墻A形成渦旋式的流場，進而提高霧化的漿料噴涂在被噴物件上的均勻性以及增加噴涂面積的
寬廣度。
[0028]通過上述環形供料導流裝置的優點，對超音波噴涂裝置可達到以下效益:
1.設置成本低廉:傳統超音波噴涂設備，噴嘴與供料為一體成型的型式，加工不易；本發明通過環形供料導流裝置而成為模組型式，減少超音波噴嘴復雜性。
[0029]2.增加噴涂效率且節省原料:利用超音波變幅桿可將漿料充分霧化，且霧化后的漿料經由本發明的供料環型導流裝置放大噴涂面積，并可微量控制進料且將霧化后的漿料均勻噴涂在被噴物件上。
[0030]3.操作維修容易:傳統超音波噴涂設備，噴嘴與供料為一體成型的型式，當超音波系統或是供料系統一方損壞時，必須全機停止作業以進行維修，而通過本發明的環形供料導流裝置的設計成為增加模組的型式，所以只需替換其損壞的元件。
[0031]4.模組設計彈性增加:通過本發明的環形供料導流裝置的設計為外接式模組，可依不同工作頻率的噴嘴進行替換。
[0032]以上所述實施例的揭示是用以說明本發明，并非用以限制本發明，故舉凡數值的變更或等效元件的置換仍應隸屬本發明的范疇。
[0033]由以上詳細說明，可使熟知本項技術人員明了本發明的確可達成前述目的，實已符合專利法的規定，爰提出專利申請。
【權利要求】
1.一種環形供料導流裝置，可供超音波變幅桿穿入并進行超音波噴涂作業，其特征在于，它包括: 一上座，具有一開口向上的凹槽，且在相對的兩側各具有一入料孔與該凹槽相通，并在該凹槽中隆起一第一環墻，在該第一環墻中縱向貫穿一第一穿孔，該凹槽深度大于該第一環墻隆起的高度而與該第一穿孔相通； 一下座，包含一上半部與一下半部上下迭設，該上半部具有一內徑由上往下漸擴的第一錐孔，且該上半部在該第一錐孔的底端的周圍具有一順沿該第一錐孔的斜度朝下半部方向凸出的第二環墻；該下半部具有一內徑由上往下漸擴的第二錐孔，該第二錐孔在頂端的最小徑大于該第二環墻的外徑，且與該第二環墻間形成一環形間隙；該下座在相對的兩側各具有一形成在上半部與下半部之間的進氣孔，各進氣孔在下座中的末端連通該環形間隙，且進氣方向朝向第二環墻； 一頂蓋，蓋合于該上座的凹槽的開口，該頂蓋具有一第三環墻，該第三環墻的外徑小于該第一穿孔且縱向地穿入該第一穿孔，且該第三環墻的周側與該第一穿孔間具有一縱向間隙，該第三環墻中具有一第二穿孔； 一墊片，被夾設于該上座與該下座之間，且在該第一穿孔之中的部分與該第三環墻之間具有一橫向間隙，并具有一第三穿孔與該第一錐孔連通； 該第一穿孔、第二穿孔、第三穿孔、第一錐孔與第二錐孔同軸而設，該凹槽經由該縱向間隙、橫向間隙、第三穿孔而與該第一錐孔連通，變幅桿由該第二穿孔穿經該第三穿孔而伸入該第一錐孔中。
2.依權利要求1所述的環形供料導流裝置，其特征在于:所述第三環墻的長度與所述上座的高度相等，所述墊片的第三穿孔與所述第一錐孔頂端的最小徑相等，且所述墊片在所述第一穿孔內的范圍具有一與所述第三環墻的底端形成該橫向間隙的凹部。
【文檔編號】B05B17/06GK103846187SQ201210505573
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2012年11月30日 優先權日:2012年11月30日
【發明者】劉憲鋒, 宋艾倫, 林建華 申請人:財團法人精密機械研究發展中心