專利名稱：用于對少量液體進行分析或吸收法測定的設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種借助于光對少量液體介質、例如一 滴液體介質進 行分析或吸收法測定的設備，其中光被引導通過介質，并且隨后可光度、分光光度、熒光或光鐠熒光地檢測或分析，其中該設備具有用 于涂覆或滴上介質的在工作位置中處于上面的平面容納部位、其殼體 中在工作位置中位于容納部位之下的光入口和在光程中位于光入口 之后的用于將光向上偏轉到容納部位的第一裝置以及可以可拆卸地 安裝在容納部位之上的反射器，其中反射器在其工作位置中與容納部 位距離一個限定的距離并且至少在光路區域中被填充或可填充介質， 其中設置第二裝置，用于將來自反射器的光偏轉到檢測器。
背景技術：
德國專利申請10 2004 023 178.8中介紹了這種裝置，并且這種裝 置在實踐中被證明是有效的。然而，由于其中所設置的光引導，即其 中光線的光軸與其在入口處進入該設備的方向垂直地向上偏轉，并且 隨后引導到實際測量位置，因此形成對于一些應用情況不利的構造高 度。發明內容因此存在這樣的任務，即提供一種前面所限定的類型的裝置，其 中可以保持其能夠以簡單的方式將小試樣量的液體介質放置在測量 位置上、并在測量之后執行簡單且可靠的清潔的優點，但是減小構造 高度。為了解決該任務，在前面限定的裝置中，以以下方式構造設置在 光入口處的用于偏轉光線的第一裝置，即使得被偏轉光線的光軸的由此產生的方向向上且傾斜地朝設備的中心線取向，并且光軸的傾斜位 置在此相對于設備中心線被這樣設置，使得光線或光束的光軸在無需 或借助于至少一個光學元件的情況下對準反射器的位置，其中設備的 光入口與光出口之間的縱向中心線延伸通過該位置。與光束首先偏轉卯。，然后才朝設備的中心線和反射器取向的情 況相比，通過由其第一偏轉所產生的光束的傾斜位置導致明顯更小的 構造高度，因為反射器與光入口的距離可以更小，以便光線擊中"明 亮位置"，即用于試樣的容納部位。對于這樣的解決方案，需要了解 例如不使用常用的直角棱鏡用于光的偏轉。當光線在不需光學元件的情況下到達反射器時這尤其有利，因為 此時可以節省用于相應光學元件、例如用于光導體的花費。但是也可能的是，設置至少一個透鏡和/或棱鏡和/或光導體作為 用于將光線偏轉向反射器并隨后從反射器到光出口或到位于光出口 處用于偏轉光線的第二裝置的光學元件。這樣的設置具有更好更準的 光引導的優點。當首先具有相應的小發散或會聚或者至少穿過聚光透鏡時，可以 應用已提及的可選方案，其中光線從偏轉出發不引導地朝容納部位延 伸。因此，在被偏轉光線入射到自由的由其達到的空間或光導體中之 前和/或之后，設置作為窗和/或用于將光線聚束的光學元件、例如聚 光透鏡也可以是有利的。本發明的一個特別有利的擴展方案可以在于，光線的光軸在光入 口之前和/或在其上水平地延伸入殼體內，并且用于偏轉光線的第 一裝置將其光軸向上偏轉小于卯。，尤其是偏轉大約80°到89°，優選偏轉 大約85°。不是直角偏轉，而是也相對于光線的原始方向執行更小的 偏轉，使得被偏轉的光線從偏轉位置出發相對于裝置殼體的縱向中心 線朝向該中心線傾斜地取向，以便在偏轉正確對齊的情況下、以及必 要時借助已提及的光學元件的情況下，實際上直接對準該裝置的試樣 應該所處的且光應該橫穿的位置。避免了以相應花費并導致更大構造高度的首先偏轉直角、然后朝試樣進一步偏轉。本發明的一個結構簡單的擴展方案可以設計成，在光入口區域中 設置偏轉棱鏡或偏轉鏡作為用于偏轉的第 一裝置，其反射面相對于入射光線的光軸具有小于45°的角。由于偏轉棱鏡或偏轉鏡的反射面的 角位置不是通常為45。的角位置，所以可以非常容易地執行根據本發 明的不等于直角的光線偏轉。其中，在棱鏡上可以將光線在偏轉之后出射所通過的那些面相對 于被偏轉光線或相對其光軸成直角地取向，以便能夠實現盡可能無干 擾的光出口，以及與位于光出口的棱鏡面形成小于90°、例如約80° 到89。、優選大約85。的角。因此，例如位于光入口的棱鏡面可以正好 垂直地走向，以便接收水平入射的光線，并且仍然可以隨后通過該棱 鏡執行根據本發明的將光線偏轉小于90°。在光出口處，設置偏轉棱鏡或偏轉鏡作為用于偏轉的第二裝置， 并且第二裝置可以與第 一裝置鏡像對稱地設置在入口和出口之間，使 得由反射器出來的、傾斜走向的光線的光軸在光出口處或光出口后水 平走向。本發明的其他擴展方案是權利要求9至18的主題。其中， 一部分涉及在根據DE 10 2004 023 178.8的裝置中提供的并且具有在那里所描述的優點的特征。其中，特別有利的是根據權利要求11的擴展方案，通過該方案可以使必要的試樣量保持得特別小。尤其是在單個或多個上述特征和措施的組合的情況下，得到一種設備，在該設備中，待檢驗介質也可以以很小和極小的量涂覆或滴到 基本上水平的面上，其中該容納部位被光優選地通過兩次。這可以在 到反射器或從反射器返回的路徑上實現，其中由此產生相應大的測量 段。同時，設備的整個構造高度通過合適的光導向而被減小，在該光 導向中，光線在其入口之后已經立即傾斜地朝著試樣對準。由于介質被涂覆到上容納部位上，所以無須特別細心或特別調整 來避免重力的不利影響。更為準確地說，重力甚至有助于將介質保持 在應該在其中進行測量的其長度中。這使得可以移除可拆卸的反射器，涂覆試樣并且將反射器重新放入其工作位置，以便然后能夠進行 測量。其中，例如借助于滴定管滴試樣是格外簡單的可實施過程。反射器可以是反射鏡或反射棱鏡，并且可以無間隔地在工作位置 接觸試樣。相應有效地，試樣被光透射并被反射器向回轉向，以便通 過用于偏轉的第二裝置達到實際的檢測器。其中，通過試樣的測量段 可以雙倍于容納面與反射器表面的距離，并且光可以兩次經過該距 離，如上面已提及的那樣。為了保持測量的精度以及為了避免各個測量之間以及相對于基 準測量的測量條件的改變，特別合乎目的的是，可以可拆卸地裝配或 安裝的反射器或者支持該反射器的蓋相對于該設備以及其殼體抗扭 轉地保持在工作位置中并且居中。由此保證在試樣被滴上之后，其相 對于設備及其殼體、并因此也相對于容納位置始終被設置在相同位置 處。各反射條件是相應一致的。其中，盡管可以將反射器從其工作位置移除，但是也存在不同的 保證抗扭轉性的結構可能性。為了反射器在工作位置以可重復方式與容納位置保持預定的距 離，可以通過反射器或蓋與殼體之間至少一個間隔墊片或者通過止擋 來確定該距離。因此，用戶沒有必要在將反射器或帶有反射器的蓋安 放在設備上時在其工作位置處注意保持預定距離。間隔墊片或止擋的 構造可以以不同方式在結構上予以解決。其中，甚至可以考慮間隔墊 片和用于反射器的抗扭轉的支撐彼此組合。盡管可以任意地實現將光入射到設備上，檢測也可以以合適的方 式與光從設備出射一起作用，其中可以使用任意測量裝置。然而，特別合乎目的的是，設備具有可配合地插入光度計、分光光度計、熒光計或謙熒光計中的、可被施加以其光的樣品池(Ktivette) 的外觀尺寸，以及設置在設備內部、用于光引導或光偏轉的裝置設置 在設備的這樣的位置處，即對于常用的樣品池，在該位置處設置用于 測量的光的入射窗和出射窗，其中用于光偏轉的第一裝置將由光度計 所入射的光朝容納面偏轉，用于光偏轉的第二裝置將從測量部位返回的光朝著檢測器偏轉。通過適當地選擇根據本發明的設備的尺寸，該 設備可以被插入常用的光度計、分光光度計、熒光計或鐠熒光計中， 以便在那里也能夠測量很小量的介質試樣。這尤其顯著降低了投入成 本和安裝成本。光入口和光出口以這樣的方式對應于商業上常見的樣品池，即使 得尤其是在相應的已存在的測量設備中可以非常容易地執行光的引 導以及在透射試樣之后對其的檢測。例如，設備的橫截面的尺寸可以對應于標準樣品池，并且尤其可以為12.5毫米xl2.5毫米。還應提及的是，又從該設備出射的光線可以與入射光線對準或可以成直角。后者尤其是在光度計和分光光度計中是合乎目的的。尤其是在單個或多個上述特征和措施的組合的情況下，得到前面所定義的設備，該設備使得對非常少量的液體介質也可以進行簡單操 作和試驗，而與介質的粘度無關。即使相對高粘度的介質也可以被很 好地試驗，因為其可以無問題地被保持在基本上水平的容納面上。此 外，測量之后的清洗也非常簡單，并且例如可以借助于光學系統-清洗 布或噴嘴來執行。必要時，其中可以使用常用的清洗劑。其中有利的 是，被試驗介質所施加的測量部位非常容易接近，其中設備甚至可以 保持在測量裝置中。總之得到一種設備，其尤其是在構造以類似樣品池尺寸的情況下 可以被置入大多數商用的測量裝置中，并且在此也可以被置入到老式 測量裝置中，而無需改變。其中，該設備由于有利的光導向而具有最 優化的且減小的構造高度，即構造高度相對于DE 10 2004 023 178.8 中所示的設備而言具有例如小大約5%到大約20%或25%的構造高 度。基準測量、試樣測量和清洗可以以很低花費、并且沒有顯著耗時 地順利實現。
以下參照附圖更為詳細地闡述本發明的實施例。在部分示意性圖示中圖1示出了根據本發明的具有殼體的設備的縱截面，其中光線水 平地入射并且通過第一裝置向上傾斜地偏轉，其中設置用于涂覆待試 驗介質的上平面容納部位，可拆卸安裝的反射器位于該容納部位之 上，反射器將光偏轉回用于偏轉光的第二裝置并從該設備射出，其中 光在設備的殼體內盡可能照射通過自由空間，以及圖2示出與圖l對應的修改實施例的圖，其中光在該設備的殼體 內在高度的大部分上通過光導體。
具體實施方式
在接下來的說明中，不同實施例中功能相同的部分即使在不同的 設計中也標以相同的附圖標記。整體上被標記為l的設備用于借助于由箭頭3所標記的光來對非 常少量、例如對一滴液體介質2或一滴的一小部分進行分析或吸收法 測定，其中對于相應的光線，其光軸由相對于中心線M傾斜走向的 虛線L表示，在圖l和2中以縱截面示出了該設備的殼體6，并因此 也示出了其殼體內部(Gehaeuseinhalt)。該光被引導通過介質2，并且隨后以公知方式以光度測定、分光 光度測定、熒光測定或譜熒光測定而被檢測或分析。其中，兩個實施 例示出了，設備l具有工作位置中上平面的、基本上水平且盡可能 平坦的容納部位4,用于涂覆或滴上介質2;其殼體6中的在工作位 置中水平取向的位于容納部位4之下的光入口 5和在光路中位于光入 口 5之后的用于將光向上朝容納部位4偏轉的第一裝置7以及可拆卸 地安裝在容納部位4上方的反射器8。其中，該反射器8在工作位置中與容納部位4距離一限定的距離， 以便產生光的恒定的精確測量段。該距離在光路區域中被填充或可被 填充以介質2。此外，設備1具有用于將來自反射器8的光朝著檢測器偏轉的第 二裝置9，其中檢測器在圖l和2中并未更詳細地示出。其中，在這兩個實施例中，設置在光入口 5處的用于偏轉光線的 第一裝置7被這樣構造，使得受其作用后的被偏轉光線的光軸(即線 L)的方向傾斜地向上朝設備1的中心線取向，其中光軸的傾斜位置 在此相對于設備中心線M被這樣設置，使得光線或光線束的光軸無 需光學元件(圖1)或借助于光學元件(圖2)而指向反射器8的位 置，光入口 5與光出口之間的設備1的縱向中心線M大致穿過該位 置。通過光的偏轉，光實際上也以最短路徑被導向到容納部位4和試 樣，就好像穿過殼體6內的自由空間，就好像穿過光學元件，其中光 學元件根據圖2可以是光導體16。其中，從這兩個圖中可以看到，在被偏轉光線入射到由其穿過的 自由空間(圖1)或光導體9中之前或之后，設置作為窗和/或用于將 光線集束的光學元件，例如聚光透鏡IO。由此，光線可以更好地被集 束并且正好對準試樣。在這兩個實施例中，光線3的光軸在光入口5 之前或在其上水平地延伸進殼體6中，并且用于偏轉光線的第一裝置 7將其光軸L向上偏轉小于90。、例如偏轉大約85°。該偏轉角在這些 圖中被標以附圖標記ll。其中，在光入口 5區域中設置偏轉棱鏡12 或必要時還設置偏轉鏡作為用于偏轉的第一裝置7,其中相應的反射 面7相對于入射光線的光軸具有小于45°的角14。其中，該角14與 45。的偏差為角11與90。的偏差的一半。在棱鏡12處，光線在偏轉之后向上傾斜出射所穿過的那些面12a 垂直于該被偏轉光線的光軸L取向，如在兩個附圖中可以清楚地看到 的那樣。由于位于光入口處的棱鏡面12b垂直于入射光線3、并因此 剛好垂直地設置，所以在棱鏡面12a與位于光入口 5處的棱鏡面12b 之間產生小于90。的角，其中該角的大小對應于角ll的大小。在光出口處，設置偏轉棱鏡15 (或必要時設置偏轉鏡)作為用 于偏轉來自試樣的、相對于中心線M對稱傾斜走向的光線的第二裝 置9,其中該第二裝置9與設備1的中心線M鏡像對稱地設置在入口 與出口之間，使得來自反射器8的朝該第二裝置9傾斜走向的光線的 光軸L在光出口處或在其之后又水平地走向，如在這兩個圖中可看到的那樣。被偏轉的光線的光軸因此在偏轉之后以可能的最短路徑延伸到容納部位4或位于那里的試樣和設置在其上的反射器8，使得能夠 實現設備1的相應很小的總高度。在這兩個實施例中，容納部位4被構造為面，并且可以從上面接 近，使得待試驗介質2由于其重力而被保持在該容納部位上。在此， 容納部位4的尺寸被定得如此大，使得穿過其朝反射器8走向且從反 射器反射的光兩次通過容納部位4，并通過介質。由此實現了，通過 由介質2所構成的試樣的測量段兩倍于容納面4與反射器8表面的距 離，并且光兩次經過該距離。測量段以這樣的方式兩倍于上面所提及 的距離。在根據圖1的實施例中，光從第一裝置7在其偏轉之后實際上無 阻礙地朝著試樣2穿過殼體6內的自由空間R,并且在反射器8反射 之后以同樣的方式又返回到第二裝置9。然而，在根據圖2的實施例中，光束被光導體16和17引導，并 由此在其橫截面中聚集。但是，已經提到的將光聚束的聚光透鏡10 或相應的光學窗直接位于偏轉之后且在容納部位4之前，其中于是對 于反射的光，在第二裝置9之前也設置這樣的聚光透鏡10。在這兩個實施例中，容納部位4相對于殼體6的被反射器8或保 持反射器的蓋18覆蓋的上端面下沉，使得該下沉的限度同時限制容 納部位4，并由此有助于能夠容納和試驗# 少量的試樣。反射器8可以是反射鏡或反射棱鏡，并且在工作位置無間隔地接 觸介質2的試樣。如所提及的那樣，于是，通過試樣的測量段兩倍于 容納部位4與反射器8表面的距離，并且光兩次經過該距離以形成總 測量段。可拆卸設置或安裝的反射器8或者根據圖l和2保持反射器的蓋 18相對于設備1和其殼體6在工作位置抗扭轉地被保持和居中。其中， 反射器8與容納部位4的距離通過反射器8與殼體6之間的或者(在 這兩個實施例中)保持反射器8的蓋18與殼體6之間的間隔墊片19 固定。其中，該間隔墊片19合乎目的地可以環狀地圍繞，以便保持均勻的距離。合乎目的地，設備l具有可插入光度計、分光光度計、熒光計或 譜熒光計中的、可被其光施加的樣品池的外觀尺寸，并且其中，設置在設備l內部的用于光偏轉的裝置7和9被設置在這樣的位置處，即 在該位置處，對于常用樣品池，設置用于測量的光的入射窗和出射窗。 其中，用于光偏轉的第一裝置7將從光度計等所射入的光偏轉到容納 部位4，而第二裝置9用于將從該測量部位返回的光偏轉到檢測器。 設備1的橫截面的外觀對應于標準樣品池的外觀，例如為 12.5mmxl2.5mm。由此，如在附圖中可看到的那樣，出射光線的光軸L與入射光 線3的光軸定線，然而，如果這兩個裝置7和9彼此相應轉動地設置， 則光線的這兩個區域也可以成直角。用于借助于光3對少量、例如一滴或一 小滴液體介質2進行分析 或吸收法測定的設備1具有用于涂覆或滴上介質2的上平面容納部 位4、和殼體6內在工作位置位于該容納部位或容納面4之下的光入 口 5，以及在光路中在該光入口 5之后，具有用于將光向上朝容納部 位4偏轉的第一裝置7，其中可拆卸地安裝的反射器8也位于那里。 其中，用于偏轉光線的裝置7被這樣構造，使得被偏轉光線的光軸的 方向向上并朝著設備1的中心線M取向，并且光線的光軸的傾斜位 置在此相對于設備中心線M被這樣地設置，使得其對準反射器8的 位置，其中縱向中心線M在設備1的光入口 5與光出口之間穿過該 位置。相對于光首先偏轉一直角、然后才通過另一方向改變而對準容 納部位或試樣的情況，設備l的構造高度可以相應的更小。
權利要求
1.一種用于借助于光(3)對少量、例如一滴液體介質(2)進行分析或者吸收法測定的設備(1)，其中所述光被引導通過介質(2)，并且隨后可以光度測定地、分光光度測定地、熒光測定地或譜熒光測定地檢測或分析，其中所述設備(1)具有在工作位置中上平面的用于涂覆或滴上介質(2)的容納部位(4)、其殼體(6)中在工作位置位于容納部位(4)之下的光入口(5)和在光路中位于光入口(5)之后的用于將光向上朝容納部位(4)偏轉的第一裝置(7)、以及可拆卸地安裝在容納部位(4)上方的反射器(8)，所述反射器在其工作位置中與容納部位(4)相距一限定的距離，并且至少在光通道區域中填充有或可填充有介質(2)，其中設置用于將來自反射器(8)的光朝檢測器偏轉的第二裝置(8)，其特征在于，設置在光入口(5)處的用于偏轉光線的第一裝置(7)被這樣構造，即使得受其作用的被偏轉光線的光軸的方向向上且朝設備(1)的中心線(M)傾斜地取向，并且光軸的傾斜位置相對于設備中心線(M)被這樣設置，即使得光線或光束的光軸在沒有光學元件或借助于至少一個光學元件的情況下對準反射器(8)的位置，設備(1)的光入口(5)與光出口之間的縱向中心線(M)穿過所述位置。
2. 根據權利要求1所述的設備，其特征在于，設置至少一個透 鏡和/或棱鏡和/或光導體(16， 17)作為用于朝反射器(8)、然后從 反射器(8)朝光出口或朝位于光出口的用于偏轉光線的第二裝置的 偏轉的光線的光學元件。
3. 根據權利要求1所述的設備，其特征在于，光線從偏轉出來 未導向或未引導地朝容納部位(4)走向。
4. 根據權利要求1至3中任一項所述的設備，其特征在于，在 被偏轉的光線入射到由其通過的自由空間(R)或光導體(9)中之前 和/或之后，設置作為窗和/或用于將光線聚束的光學元件，例如聚光 透鏡(10)。
5. 根據權利要求1至4中任一項所述的設備，其特征在于，光 線(3)的光軸在光入口 (5)之前和/或在其上水平地進入殼體(6), 并且用于偏轉光線的第一裝置(7)將其光軸(L)向上偏轉小于90°， 尤其是偏轉大約80°到89°,優選偏轉大約85°。
6. 根據權利要求1至5中任一項所述的設備，其特征在于，在 光入口 (5)的區域中，設置反射面(13)相對于入射光線的光軸的 角度(14)小于45。的偏轉棱鏡(12)或偏轉鏡作為用于偏轉的第一 裝置(7 )。
7. 根據權利要求1至6中任一項所述的設備，其特征在于，在 棱鏡(12)處，光線在偏轉之后通過其出射的面(12a)與被偏轉光 線或與其光軸(L )垂直地取向，并且與位于光出口 ( 5 )的棱鏡面(12b ) 形成小于90。、例如大約80。到89。、優選大約85。的角。
8. 根據權利要求1至7中任一項所述的設備，其特征在于，在 光出口處，設置偏轉棱鏡(15 )或偏轉鏡作為用于偏轉的第二裝置(9 )， 并且第二裝置(9)相對于入口和出口之間設備(1)的中心線(M) 鏡像對稱地被設置，使得來自反射器(8)的傾斜走向的光線的光軸(L)在光出口處或之后水平走向
9. 根據權利要求1至8中任一項所述的設備，其特征在于，容 納部位(4)尤其對于反射器被移除的情況可從上面接近，并且待試 驗介質可通過其重力而固定或保持在容納部位(4)上。
10. 根據權利要求1至9中任一項所述的設備，其特征在于，容 納部位(4)的尺寸被定得如此大，使得通過其朝反射器(8)走向、 并被反射器反射的光(3)至少一次、尤其是兩次通過容納部位(4) 和/或介質(2)。
11. 根據權利要求1至10中任一項所述的設備，其特征在于， 容納部位(4)相對于殼體(6)的上面的被反射器(8)或蓋(18) 覆蓋的端面下沉，并且該下沉的限度限制容納部位(4)。
12. 根據權利要求1至11中任一項所述的設備，其特征在于， 反射器(8)可以是反射鏡或反射棱鏡，并且介質(2)的試樣在工作位置可以無間隔地接觸。
13. 根據權利要求1至12中任一項所述的設備，其特征在于， 通過試樣的測量段雙倍于容納部位(4)與反射器(8)表面的距離， 并且光兩次通過該距離以形成總測量段。
14. 根據權利要求1至13中任一項所述的設備，其特征在于， 可拆卸設置或安裝的反射器(8)或保持反射器的蓋(18)相對于設 備(1)和其殼體(6)抗扭轉地保持且尤其居中地保持在工作位置。
15. 根據權利要求1至14中任一項所述的設備，其特征在于， 反射器(8)距容納部位(4)的距離通過至少一個間隔墊片(19)或 通過至少一個止擋來固定，其中間隔墊片設置在反射器(8 )或蓋(18 ) 與殼體(6)之間。
16. 根據上述權利要求中任一項所述的設備，其特征在于，設備 (1)具有可合適地插入光度計、分光光度計、熒光計或譜熒光計中的、可被施加以其光的樣品池的外觀尺寸，并且設置在設備(l)內 部的用于光引導或光偏轉的裝置(7， 9)被設置在設備的這樣的位置 處，即對于常用的樣品池，在所述位置處設置用于測量的光(3)的 入射窗和出射窗，其中用于光偏轉的第一裝置(7)將從光度計等射 入的光朝容納部位(4)偏轉，用于光偏轉的第二裝置(9)將從測量 部位返回的光朝檢測器偏轉。
17. 根據權利要求1至16中任一項所述的裝置，其特征在于， 設備(l)的橫截面的外觀對應于標準樣品池，并且尤其為12.5毫米 x12.5毫米。
18. 根據權利要求1至17中任一項所述的裝置，其特征在于， 出射光線(3)的光軸(2)與入射光線的光軸對齊或者成直角。
全文摘要
一種借助于光(3)對少量、例如一滴液體介質(2)進行分析或者吸收法測定的設備(1)，具有用于涂覆或滴上介質(2)的上平面的容納部位(4)、其殼體(6)中在工作位置中水平定向的位于容納部位(4)之下的光入口(5)和在光路中位于光入口(5)之后的用于將光向上朝容納部位(4)偏轉的第一裝置(7)，其中可拆卸地安裝的反射器(8)位于容納部位。用于偏轉光線的第一裝置(7)被這樣構造，使得受其作用的被偏轉光線的光軸的方向向上且朝設備(1)的中心線(M)傾斜地定向，并且光軸的傾斜位置相對于裝置中心線(M)被這樣設置，使得光線或光束的光軸無需要或借助于至少一個光學元件對準反射器(8)的位置，設備(1)的光入口(5)與光出口之間的縱向中心線(M)穿過該位置。相對于光首先偏轉一直角、隨后才通過另一裝置對準容納部位或試樣的情況相比，設備(1)的構造高度可相應更小。
文檔編號G01N21/59GK101228431SQ200680026526
公開日2008年7月23日 申請日期2006年7月12日 優先權日2005年8月5日
發明者托馬斯·薩希里, 霍爾瑪·卡納德勒 申請人:豪瑪有限公司;托馬斯·薩希里